Silizium-Halbleitertechnologie

Das vorliegende Studien skript "Silizium-Halbleitertechnologie" ist aus der Vorlesung "Halbleitertechnologie" entstanden, die erstmalig im Wintersemester 1989/90 von Prof. Dr.-Ing. K. Schumacher an der Universitat Dortmund gehalten wurde. Um die rasante Entwicklung der Prozesstechnik berucksichtigen zu koennen, ist der Inhalt der inzwischen auf zwei Semester ausgedehnten Vorlesung um fortschrittliche Integra- tionstechniken erweitert worden. Ziel dieses Buches ist es, den Studenten der Elektrotechnik, Informatik, Physik, aber auch den Schaltungstechnikem und den Ingenieuren in der Prozesstechnik, die Realisierung und den Aufbau integrierter Schal- tungen zu veranschaulichen. Es umfasst die Kristallherstellung, die ver- schiedenen Prozessschritte der Planartechnik und die Montagetechnik fur integrierte Schaltungen. Erganzend dazu sind grundlegende weiter- fuhrende Integrationstechniken berucksichtigt worden, um dem interes- sierten Leser die Verfahren der Hoechstintegration verstandlich darlegen zu koennen. Die UEbungsaufgaben sollen zur UEberprufung des Verstand- nisses dienen und gleichzeitig dazu beitragen, die Groessenordnungen der verwendeten Parameter abschatzen zu koennen. Eigene Erfahrungen aus der CMOS-Technologielinie des Lehrstuhls Bauelemente der Elektrotechnik / Arbeitsgebiet Mikroelektronik der Universitat Dortmund runden den Inhalt des Buches ab. An dieser Stelle moechte ich Herrn Prof. K. Schumacher herzlich fur die gewissen- hafte Ausarbeitung der Unterlagen zur Vorlesung "Halbleitertechnolo- gie" danken, die als Grundlage fur dieses Buch dienten. Fur die Durch- sicht der Druckvorlage danke ich Herrn Dipl.-Ing. John T. Horstmann. Mein Dank gilt auch Herrn Prof. K. Goser fur die Moeglichkeit, dieses Buch zu verfassen. Ganz herzlich danke ich meiner Familie fur ihre Unterstutzung wahrend der zeitintensiven Ausarbeitung der Unterlagen.