LIBRO INGLESE
CMOS Plasma and Process Damage
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CMOS Plasma and Process Damage
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This book discusses the complex technology of building CMOS computer chips and covers some of the unusual problems that can occur during chip manufacturing. Readers will learn how plasma and process damage results from the high-energy processes that are used in chip manufacturing, causing harm to the chips, functional failure and reliability problems.
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Autore:
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Editore:
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Anno:2025
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Rilegatura:Hardback
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Pagine:466 p.
Testo in English
Dimensioni:
235 x 155 mm
EAN:
9783031890284
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