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Plasma Etching: Fundamentals and Applications
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Plasma Etching: Fundamentals and Applications
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The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
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Autore:
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Editore:
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Collana:Series on Semiconductor Science and Technology
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Anno:1998
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Rilegatura:Hardback
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Pagine:356 p.
Testo in English
Dimensioni:
242 x 163 mm
Peso:
743 gr.
EAN:
9780198562870
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