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High-NA EUV Imaging and Mask 3D Effects: 0.55 NA anamorphic optics, reflective reticle, absorber shadowing, telecentricity error, Bossung tilt, best-focus shift, k1 optimization, 2 nm/3 nm node patterning, EPE/MEEF budgeting With Python
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High-NA EUV Imaging and Mask 3D Effects: 0.55 NA anamorphic optics, reflective reticle, absorber shadowing, telecentricity error, Bossung tilt, best-focus shift, k1 optimization, 2 nm/3 nm node patterning, EPE/MEEF budgeting With Python
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Autore:
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Editore:
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Collana:Computational Mathematics Library
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Anno:2025
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Rilegatura:Paperback / softback
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Pagine:342 p.
Testo in English
Dimensioni:
279 x 216 mm
Peso:
794 gr.
EAN:
9798279044078
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